セラミックアプリケーション用に開発されたフェニックスTM TS05トンネルキルンプロファイリングシステムは、
説明したセラミック焼成プロセスの多くに最適です。 このシステムは、スペースが限られ、時間が長く、キルンカーの下の温度が高くなる可能性があるトンネルキルンで簡単に使用できるように特別に設計されています。
セラミック乾燥および焼成窯での製品のプロセス全体の温度プロファイリングは、製造プロセスの成功に不可欠です。
セラミックアプリケーション用に開発されたフェニックスTM TS05トンネルキルンプロファイリングシステムは、
説明したセラミック焼成プロセスの多くに最適です。 このシステムは、スペースが限られ、時間が長く、キルンカーの下の温度が高くなる可能性があるトンネルキルンで簡単に使用できるように特別に設計されています。
陶磁器用に開発され、ローラーハースキルンで焼成される製品の温度プロファイルを監視します。
それは、外側から熱電対を入れることなく動作し、セラミックローラーを経由して、窯を通り、粘土の本体と雰囲気温度を監視して保存します。